日本レーザー
日本レーザーは日本でも歴史のあるレーザおよび、光関連の製品を扱う専門企業です。日本レーザーでは、動的画像解析(DIA)を中心とした粒子径分布測定装置を取り扱っています。
扱っている粒子径分布測定装置 LD
HELOS
- 粒子径測定範囲:0.1~3500 µm
- 湿式乾式対応:両方に対応
HELOSの強み・特徴
高いモジュール性で適した環境を構築
測定サンプルに応じて分散器や測定レンジを選択することで、適した測定環境の構築が可能。乾式測定と湿式測定両方に対応するため、サンプルを本来存在する状態で測定できます。
幅広い測定範囲で正確なデータを取得可能
厳密生の高いフーリエ光学系を採用しているため測定範囲が広く、かつその全域で高い分解能を発揮できることが特徴。粉末をエアロゾル状に分散させて測定できるため、信頼性の高いデータが得られます。
少量のサンプルでも測定OK
HELOSでは毎秒2000もの高頻度でデータを取得します。高速気流下でも個々の粒子径を正確に抽出できるほか、少量でも十分なサンプルサイズが得られるため、希少なサンプルの測定にも有用です。
扱っている粒子径分布測定装置 DIA
QICPIC
- 粒子径測定範囲:0.55~34000µm
- 湿式乾式対応:両方に対応
QICPICの強み・特徴

高速かつ高解像度の撮像
毎秒最大500フレームの高速撮像で100万個以上の粒子を数分で測定。ナノ秒オーダーの高速パルス光源により、気流分散された粒子もモーションブラーなしで正確に捉え、粒子の詳細な形状や粒度を高い精度で解析できます。
統計的に信頼性の高い解析
多数の粒子を個々に測定し、生データとして全ての粒子画像を保存することで、形状も定量的に解析可能です。これにより、統計的に信頼性の高いデータを提供し、精度の高い測定が実現します。
幅広いサイズのサンプルに対応
乾式・湿式を問わず、0.55~34000µmの広範囲な粒子径のサンプルに対応しており、多様な分野での利用が可能です。また、微量な粗大粒子の検出にも高感度で対応でき、製品の異物検査などにも適しています。
扱っている粒子径分布測定装置 DLS
DLSの取扱いはありません(2024年3月時点)
自社に合う粒子径分布測定装置は「目的(粒子径分布測定なのか、形状分析なのかなど)」と
「測定したい粒子の大きさ」から合う原理がわかります。
最大4つの質問に答えることで自社に合う粒子径分布測定装置がわかる検索を用意しました。
サポート
公式サイトに記載はありませんでした。
お客様の声
公式サイトに記載はありませんでした。
日本レーザーとは
日本レーザーは、レーザ機器及び光技術製品の輸出入を行う専門企業です。取り扱う製品は多岐に渡り、理化学用レーザや産業用レーザのほかレーザ加工装置や光学分析装置等、幅広い製品を提供しています。これまでの実績を活かしつつ、応用分野での技術的提案や海外製品を安心して導入できるトータルサポートを目指します。
基本データ
| 会社名 | 株式会社日本レーザー |
|---|---|
| 本社所在地 | 東京都新宿区西早稲田2-14-1 |
| 創業/設立 | 1968(昭和43)年4月設立 |
| 事業内容 | レーザ機器及び光技術製品の輸出入 |
| 問合せ | https://www.japanlaser.co.jp/contact/ |
| 公式サイト | https://www.japanlaser.co.jp/ |

















